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具有互连与电容器的集成电路的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN97109724.0
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1997-04-24
  • 申请人:
    世界先进积体电路股份有限公司
著录项信息
专利名称具有互连与电容器的集成电路的制造方法
申请号CN97109724.0申请日期1997-04-24
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日1997-11-26公开/公告号CN1166056
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人世界先进积体电路股份有限公司申请人地址
台湾省新竹科学工业区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人世界先进积体电路股份有限公司当前权利人世界先进积体电路股份有限公司
发明人郑湘原;廖瑛瑞
代理机构柳沈知识产权律师事务所代理人黄敏
摘要
一种半导体存储器件的小型互连与电容器制造方法。该方法用两组隔离垫,形成自动对准的源极/位线接触与电容器的存储电极。第一隔离垫位于层间介电层的侧壁上,限定出源极/位线的接触窗。随后,第二隔离垫形成在位线的侧壁上,限定出电容器的存储电极。自动对准制作过程用了两组隔离垫,可使形成接触窗的接触蚀刻工艺的制作重叠限制更为宽松,也能形成长宽比很高的小型接触窗。该方法可在同一掩模步骤中限定出源极与漏极的接触,减少掩模步骤的数目。

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