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具有减少的杂散聚焦光的滤光片阵列

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110113758.6
  • IPC分类号:G02B5/28G02B5/20
  • 申请日期:
    2016-10-28
  • 申请人:
    美题隆公司
著录项信息
专利名称具有减少的杂散聚焦光的滤光片阵列
申请号CN202110113758.6申请日期2016-10-28
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-05-04公开/公告号CN112748489A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/28IPC分类号G02B5/28;G02B5/20查看分类表>
申请人美题隆公司申请人地址
美国俄亥俄州梅菲尔德海茨市帕克兰大道60*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人美题隆公司当前权利人美题隆公司
发明人迈克尔·J·塔塔里克;凯文·R·唐宁
代理机构北京三高永信知识产权代理有限责任公司代理人关越
摘要
本申请提供了一种具有减少的杂散聚焦光的滤光片阵列。本申请公开了一种设备,该设备包括:包括光学滤光片元件的阵列的光学滤光片阵列(10);其中每个光学滤光片元件具有由侧壁连接的相对的相互平行的主面,所述侧壁包括至少一对相对的梯形侧壁和至少一对相对的相互不平行的侧壁;并且,其中滤光片元件的相对的相互平行的主面共同限定光学滤光片阵列的光学入射孔和光学出射孔,并包括干涉滤光片。本申请进一步公开了一种照射这种滤光片阵列的方法。

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