一种气体分析仪样气室装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201220707205.X
IPC分类号：G01N21/15
申请日期：
2012-12-19
申请人：
北京大方科技有限责任公司

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著录项信息

专利名称	一种气体分析仪样气室装置
申请号	CN201220707205.X	申请日期	2012-12-19
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/15 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/01 便于进行光学测试的装置或仪器〔3〕 G01N21/15 防止光学装置的部件的沾污或光路的障碍〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;1;5查看分类表>
申请人	北京大方科技有限责任公司	申请人地址	北京市海淀区学院南路12号北师大科技园57号楼318室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京大方科技有限责任公司	当前权利人	北京大方科技有限责任公司
发明人	韩敏艳;骆德全;郁良;周欣
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	魏晓波

摘要

本实用新型提供了一种气体分析仪样气室装置，包括具有光学器件的样气室管，还包括开设在样气室管上的维护窗口和用于密封该维护窗口的可拆卸的密封板。应用本实施例提供的气体分析仪样气室装置，当其内部的光学器件被污染时，可通过拆卸密封板使得维护窗口打开，操作者通过维护窗口对光学器件进行清理。该装置避免使用将其整个拆卸开的清理方式，因此可有效减少清理时间，且便于操作者的维护。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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