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曝光方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510118117.0
  • IPC分类号:G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027
  • 申请日期:
    2005-10-20
  • 申请人:
    茂德科技股份有限公司
著录项信息
专利名称曝光方法
申请号CN200510118117.0申请日期2005-10-20
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2007-04-25公开/公告号CN1952783
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人茂德科技股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人茂德科技股份有限公司当前权利人茂德科技股份有限公司
发明人林俊羽
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人魏晓刚;李晓舒
摘要
一种曝光方法,适用于一种偏轴照明系统。此方法是先提供一个具有第一图案与第二图案的光罩,并对此光罩进行分析以得到分别对应第一图案的第一光源强度分布与对应第二图案的第二光源强度分布。提供数个光束经过此光罩的第一图案而形成数个第一影像,以取得相对应的第一光源强度分布。接着,提供数个光束经过光罩的第二图案而形成数个第二影像,以取得相对应的第二光源强度分布。将光源调整为第一光源强度分布,以对此光罩的第一图案进行曝光。然后,将此偏轴照明系统的光源调整为第二光源强度分布,以对此光罩的第二图案进行曝光。

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