加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

长波长垂直腔面发射激光器的结构和制作方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610003587.7
  • IPC分类号:H01S5/183;H01S5/187
  • 申请日期:
    2006-02-15
  • 申请人:
    中国科学院半导体研究所
著录项信息
专利名称长波长垂直腔面发射激光器的结构和制作方法
申请号CN200610003587.7申请日期2006-02-15
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-08-22公开/公告号CN101022208
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01S5/183IPC分类号H;0;1;S;5;/;1;8;3;;;H;0;1;S;5;/;1;8;7查看分类表>
申请人中国科学院半导体研究所申请人地址
北京市海淀区清华东路甲35号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院半导体研究所当前权利人中国科学院半导体研究所
发明人王小东;吴旭明;谭满清
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人汤保平
摘要
一种长波长垂直腔面发射激光器的结构,包括:一衬底,该衬底为N型InP衬底;一缓冲层制作在衬底上;一下布拉格反射镜制作在缓冲层上,该下布拉格反射镜用于反射激光腔内的光来形成激光振荡;一有源区,该有源区制作在下布拉格反射镜上,用来形成光增益;一电极接触层,该电极接触层制作在有源区上的两侧,用来形成良好的欧姆接触;一上布拉格反射镜,该上布拉格反射镜制作在有源区上的中间位置,同时形成出光窗口,并用于反射激光腔内的光来形成激光振荡;一P电极,该P电极制作在电极接触层的上面,用于电流注入;一N电极,该N电极制作在衬底的下面。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供