灌注装置、方法和系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201610245254.9
IPC分类号：G02F1/1341
申请日期：
2016-04-19
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	灌注装置、方法和系统
申请号	CN201610245254.9	申请日期	2016-04-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-09-07	公开/公告号	CN105929609A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1341 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1341 液晶单元的充料或封闭〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;4;1查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	朱小研;康昭;田彪;杨添
代理机构	北京三高永信知识产权代理有限责任公司	代理人	滕一斌

摘要

本发明公开了一种灌注装置、方法和系统，属于灌注技术领域。所述灌注装置包括：第一腔室、第二腔室、移动组件和气压控制组件；第二腔室设置在第一腔室中，第一腔室用于放置待灌注装置，第二腔室用于放置灌注槽；第二腔室上设置有开口，及扣置在开口上的活动挡板和挡板槽，活动挡板与挡板槽动密封；第一腔室和第二腔室均与气压控制组件连接；移动组件设置在第一腔室或第二腔室中，用于移动所述待灌注装置或所述灌注槽。本发明通过移动活动挡板来实现第一腔室和第二腔室在不同气压下的密封，解决了相关技术中对待灌注材料产生破坏的问题，达到了能够在不破坏待灌注材料的前提下对待灌注装置进行脱气处理的效果。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供