沉积掩模和使用该沉积掩模的沉积设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201810233793.X
IPC分类号：C23C14/04;C23C16/04
申请日期：
2018-03-21
申请人：
乐金显示有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	沉积掩模和使用该沉积掩模的沉积设备
申请号	CN201810233793.X	申请日期	2018-03-21
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2018-10-23	公开/公告号	CN108690951A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/04 局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;0;4;;;C;2;3;C;1;6;/;0;4查看分类表>
申请人	乐金显示有限公司	申请人地址	韩国首尔变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	乐金显示有限公司	当前权利人	乐金显示有限公司
发明人	张锡洛;朴铉淑;金钟宪
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	李辉;刘久亮

摘要

沉积掩模和使用该沉积掩模的沉积设备。一种沉积掩模可以包括：基底构件，该基底构件包括第一表面和第二表面，该第一表面和第二表面被划分成第一区域、第二区域和第三区域；第一开口，该第一开口在所述第一区域中；第二开口，该第二开口在所述第二区域中；以及第三开口，该第三开口在所述第三区域中，其中，所述第一开口、所述第二开口和所述第三开口中的每一个具有沙漏形状的横截面，其中，所述第一开口的沙漏形状和所述第三开口的沙漏形状相对于所述基底构件的所述第二表面背离所述第二开口倾斜。以这种方式，能够使沉积处理期间的阴影效应最小化并且能够改善沉积均匀性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供