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一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201320018016.6
  • IPC分类号:G03F7/20;G02B27/09;G02B27/10
  • 申请日期:
    2013-01-14
  • 申请人:
    中国科学技术大学
著录项信息
专利名称一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机
申请号CN201320018016.6申请日期2013-01-14
法律状态放弃专利权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;2;7;/;0;9;;;G;0;2;B;2;7;/;1;0查看分类表>
申请人中国科学技术大学申请人地址
安徽省合肥市包河区金寨路96号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学技术大学当前权利人中国科学技术大学
发明人王向贤;张斗国;朱良富;陈漪恺;胡继刚;王沛;明海
代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司代理人杨学明
摘要
本实用新型公开了一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机,包括:激光光源,光电快门,透镜,半波片,起偏器,分束器,平面反射镜,棱镜,匹配油,玻璃基底,金属薄膜,偶氮苯聚合物薄膜,光波导参数测量仪。激光光源发出的光扩束后,经半波片,起偏器后,成为所需的偏振光,经分束镜后成为强度相等的两束,被平面反射镜反射后,以相同的导模激发角辐照到金属薄膜上,并激发多层结构中的导模,两束导模的干涉导致偶氮苯聚合物的质量迁移,从而刻写出亚波长表面起伏光栅。本实用新型基于导模干涉场,偶氮苯聚合物薄膜,实现了大面积亚波长表面起伏光栅的刻写,光刻时间短,工艺简单,无需显影、定影,且刻写的光栅可擦除和重构。

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