同时在两侧进行防水处理的机构

发明专利无效专利

申请号：
CN98800652.9
IPC分类号：--
申请日期：
1998-05-18
申请人：
保谷株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	同时在两侧进行防水处理的机构
申请号	CN98800652.9	申请日期	1998-05-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	1999-08-25	公开/公告号	CN1226971
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	保谷株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	HOYA株式会社	当前权利人	HOYA株式会社
发明人	嘉村齐;葭原雅章;神谷肇
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	刘志平

摘要

在其上排列有多个光学透镜基体材料的基体托座(22)可旋转地装在真空氛围中，并具有一用于在光学透镜基体材料的表面上形成防水膜的真空处理室(16)，另外，在此真空处理室中装有两面同时防水处理的机构。相对于基体托座(22)，设置了一上侧的防水处理装置(30)和一下侧的防水处理装置(40)，上侧的防水处理装置在光学透镜基体材料的上侧形成防水膜，而下侧的防水处理装置则在光学透镜基体材料的下侧形成防水膜。这种构形在光学透镜基体材料的两面同时形成防水膜。用于防水处理的膜厚修正机构由用于修正膜厚差的膜厚修正板(51，52)组成，它布置在防水处理装置与光学透镜基体材料之间。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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