磁头及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610142713.7
IPC分类号：G11B5/127;G11B5/31
申请日期：
2006-10-30
申请人：
富士通株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	磁头及其制造方法
申请号	CN200610142713.7	申请日期	2006-10-30
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2007-12-12	公开/公告号	CN101086847
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G11B5/127 ? IPC结构图谱： G 物理 G9 G部其他 G11 信息存储 G11B 基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储（以不需要通过换能器重现记录值的方式记录测量值的入G01D 9/00；利用有机械标记的带子，例如，穿孔纸带或利用单元记录卡，如穿孔卡片或具有磁性标记的卡片的记录或重现设备入G06K；将数据从记录载体的一种类型转移到另一种类型上的入G06K 1/18；将重放装置的输出耦合到无线电接收机上去的电路入H04B 1/20；唱机拾音器之类的声音机电传感器或为此所用的电路入H04R） G11B5/00 借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体（G11B 11/00优先）〔4〕 G11B5/127 磁头的结构或制造，例如电感应的〔4〕	IPC分类号	G;1;1;B;5;/;1;2;7;;;G;1;1;B;5;/;3;1查看分类表>
申请人	富士通株式会社	申请人地址	日本神奈川县川崎市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	富士通株式会社	当前权利人	富士通株式会社
发明人	小野藤英;伊藤隆司
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	孙海龙

摘要

本发明涉及磁头及其制造方法。该方法能够制造紧凑型磁头，该磁头具有小尺寸记录线圈带来的优良特性并且能够抑制磁损。该磁头包括记录线圈、下磁极和后间隙部。该方法包括下面的步骤：在下层上形成用于电镀的晶种层；利用晶种层作为电力馈送层通过电解电镀在晶种层上形成记录线圈；为形成下磁极和后间隙部，对晶种层上的光刻胶进行构图；去除晶种层的暴露部分；暴露下层的将形成下磁极和后间隙部的部分；以及通过电解电镀在下层中形成下磁极和后间隙部。

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