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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

摄影反光罩

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201420024820.X
  • IPC分类号:F21V3/04;F21V7/22;F21V17/10;F21V29/00
  • 申请日期:
    2014-01-15
  • 申请人:
    应亦军
著录项信息
专利名称摄影反光罩
申请号CN201420024820.X申请日期2014-01-15
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F21V3/04IPC分类号F;2;1;V;3;/;0;4;;;F;2;1;V;7;/;2;2;;;F;2;1;V;1;7;/;1;0;;;F;2;1;V;2;9;/;0;0查看分类表>
申请人应亦军申请人地址
浙江省余姚市朗霞街道天华村乐城12队 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应亦军当前权利人应亦军
发明人应亦军
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型公开了摄影反光罩,包括反光罩本体,反光罩本体采用多层次材料制成,反光罩本体内表面设置有反光层,反光罩本体的开口处直径为71cm,所述的反光罩本体顶部设置有安装环座,安装环座顶部通过螺钉安装有接环和接环箍,安装环座的底部通过支撑杆安装有穿孔扰流板;所述的支撑杆采用多根杆子通过螺纹连接在一起;所述的穿孔扰流板采用铝制材料制成;所述的反光罩本体外设置有白色柔光布;本实用新型的有益效果:实用,生产成本低,使用方便,便于修改光温度,抑制紫外线输出,光线清晰,高效率输出,特别适用于人像、时尚摄影,也可广泛使用于静物、建筑或环境摄影。

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