加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201080043905.7
  • IPC分类号:G03F7/20;G02B7/00
  • 申请日期:
    2010-09-24
  • 申请人:
    卡尔蔡司SMT有限责任公司
著录项信息
专利名称用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置
申请号CN201080043905.7申请日期2010-09-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-07-04公开/公告号CN102549503A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;7;/;0;0查看分类表>
申请人卡尔蔡司SMT有限责任公司申请人地址
德国上科亨 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司当前权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人V.库利特斯基;B.盖尔里奇;S.泽尔特;关彦彬;P.德费尔;A.沃姆布兰德
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人邱军
摘要
本发明涉及一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置,包括:多个光学元件(101、102);以及承载结构(100、300),其承载所述光学元件(101、102),其中所述承载结构由至少两个可释放地互相连接的模块(110-140、310-340、510、610)构成;以及其中每个模块(110-140、310-340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)构成,其中通过多个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)和/或模块(110-140、310-340、510、610)产生子壳体;以及其中所述子壳体具有几何形状,所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同,所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供