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应变绝缘体上硅的形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200380106506.0
  • IPC分类号:H01L21/20;H01L21/762
  • 申请日期:
    2003-12-02
  • 申请人:
    国际商业机器公司
著录项信息
专利名称应变绝缘体上硅的形成方法
申请号CN200380106506.0申请日期2003-12-02
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-01-25公开/公告号CN1726581
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/20IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;2查看分类表>
申请人国际商业机器公司申请人地址
美国纽约 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人国际商业机器公司当前权利人国际商业机器公司
发明人盖伊·M·科恩;希尔科·H·克里斯蒂安森
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人付建军
摘要
本发明公开了制造基于应变Si的层的方法、在这个层中制造的器件和包括这种层和器件的电子系统。该方法包括在衬底上外延生长SiGe层、在这个SiGe层中形成不同的Ge浓度的步骤。在SiGe层中的Ge浓度包括唯一的Ge突出区,在这个区中Ge浓度急剧增加。基于Si的层外延地淀积在SiGe层上,由此成为拉应变。还公开了基于应变Si的层(通常是Si或SiGe)可以转移给不同的体积的衬底或者绝缘体。

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