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用于光刻设备的流体处理结构及浸没光刻设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110337094.1
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-08-28
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称用于光刻设备的流体处理结构及浸没光刻设备
申请号CN202110337094.1申请日期2017-08-28
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-23公开/公告号CN113156772A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人P·范德艾登;C·M·诺普斯;T·W·波莱;F·L·寇肯斯;G·塔娜萨;R·H·M·考蒂;K·库依皮尔斯;H·S·布登贝格;G·L·加托比焦;E·范弗利特;N·坦凯特;M·J·H·弗雷肯;J·L·范埃尔沃;M·M·C·F·托因尼森
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人张启程
摘要
一种流体处理结构及浸没光刻设备,该流体处理结构配置成将浸没流体限制到光刻设备的一区域,包括:孔,用作使投影束经由通过浸没流体而通过流体处理结构的通道;第一部分;第二部分;它们中的至少一者限定一表面,适于从区域提取浸没流体;流体处理结构适于提供进入或离开流体处理结构的表面的流体流,第一部分相对于第二部分的移动实现改变进入或离开表面的流体流相对于孔的位置,两部分中的一者包括用于流体流流过的至少一个通孔,两部分中的另一者包括用于流体流流过的至少一个开口,至少一个通孔和至少一个开口在被对准时流体连通,该移动允许至少一个开口与至少一个通孔中的一个通孔对准,由此改变进入或离开表面的流体流相对于孔的位置。

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