存储器装置、集成电路与存储器装置的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201210496904.9
IPC分类号：H01L27/24;H01L45/00;G11C13/00
申请日期：
2012-11-27
申请人：
旺宏电子股份有限公司

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著录项信息

专利名称	存储器装置、集成电路与存储器装置的制造方法
申请号	CN201210496904.9	申请日期	2012-11-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-06-04	公开/公告号	CN103839958A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L27/24 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L27/00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件（其零部件入H01L 23/00，H01L 29/00至H01L 51/00；由多个单个固态器件组成的组装件入H01L 25/00）〔2，8〕 H01L27/24 包括无电位跃变势垒或表面势垒的用于整流、放大，或切换的固态组件的〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;7;/;2;4;;;H;0;1;L;4;5;/;0;0;;;G;1;1;C;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人	旺宏电子股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹科学工业园区力行路16号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	旺宏电子股份有限公司	当前权利人	旺宏电子股份有限公司
发明人	李峰旻;林昱佑;李明修
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	任岩

摘要

本发明公开了一种应用单极可编程金属化存储单元的存储器装置、集成电路与其制造方法。该可编程金属化装置包括一第一电极与一第二电极，以及串联在第一与第二电极之间的一介电层、一导电离子势垒层与一离子供应层。在操作中，一导电桥是通过使用具有相同极性的偏压而在介电层中被形成或自毁以表示一数据值，致能二极管存取装置的使用。为了形成一导电桥，施加足够高的偏压，导致离子能穿透导电离子势垒层进入介电层中，然后形成单纤维(filament)或电桥。为了使导电桥自毁，施加相同极性的偏压，其导致电流流经此构造，而离子流动是被导电离子势垒层所阻碍。因为焦耳热的结果，介电层中的任何电桥会瓦解。

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