用于控制大量生产的辐射体的比吸收率的设备

发明专利有效专利

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于控制大量生产的辐射体的比吸收率的设备
申请号	CN200480023901.7	申请日期	2004-08-18
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2006-09-27	公开/公告号	CN1839321
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01R29/08 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01R 测量电变量；测量磁变量（指示谐振电路的正确调谐入H03J 3/12） G01R29/00 不包括在G01R 19/00至G01R 27/00各组中的电量的测量或指示装置 G01R29/08 电磁场特性的测量	IPC分类号	G;0;1;R;2;9;/;0;8查看分类表>
申请人	成像微波技术应用公司	申请人地址	法国勒雨里斯变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	成像微波技术应用公司	当前权利人	成像微波技术应用公司
发明人	P·加罗;L·迪歇纳;J-C·博洛梅
代理机构	北京戈程知识产权代理有限公司	代理人	程伟

摘要

本发明涉及一种设备，用于控制大量生产的辐射体的比吸收率。本发明设备的特征在于：它包括至少一个传感器以及至少一个处理单元，其中传感器用于测定由位于区域中的物体所辐射的能量，处理单元用于分析这样测定的能量。上述传感器由一个波导组成，其包括一个设置在测试区对面的开口以及至少一个设置在波导内部的测量探针。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供