一种含纳米二硅化钼离合器面片总成及制造方法发明专利
申请号：CN201610562975.2
LOC分类号:F16D13/64
IPC结构图谱：
- B作业；运输
- B0分离；混合
- B01一般的物理或化学的方法或装置
- B01L通用化学或物理实验室设备（医用或药用设备入A61；工业用设备或者结构和性能与类似的工业用设备相类似的实验室设备，见相应的工业设备各类，特别是B01和C12的小类；分离和蒸馏设备入B01D；混合或搅拌装置入B01F；雾化器入B05B；筛子入B07B；栓、塞入B65D；一般液体贮运入B67；真空泵入F04；虹吸管入F04F 10/00；龙头，阻塞栓入F16K；管、管接头入F16L；专门适用于材料研究与分析的设备入G01，尤其入G01N；电气或光学设备见G部和H部的有关各类）
- B01L1/00外壳；腔室（通风橱入B08B；配有操作装置，手套箱的入B25J；冷却室入F25D）
