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制备纳米光栅的装置和方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510110054.4
  • IPC分类号:G02B5/18
  • 申请日期:
    2005-11-04
  • 申请人:
    中国科学院上海光学精密机械研究所
著录项信息
专利名称制备纳米光栅的装置和方法
申请号CN200510110054.4申请日期2005-11-04
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-04-12公开/公告号CN1758075
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/18IPC分类号G;0;2;B;5;/;1;8查看分类表>
申请人中国科学院上海光学精密机械研究所申请人地址
上海市800-211邮政信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海光学精密机械研究所当前权利人中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人李成斌;贾天卿;陈洪新;孙海轶;徐至展
代理机构上海新天专利代理有限公司代理人张泽纯
摘要
一种制备纳米光栅的装置和方法,本发明的基本构思是:利用KDP晶体将一束激光倍频,形成偏振方向互相垂直两束激光。将这两束激光共光路聚焦到材料表面,在材料上形成周期纳米光栅。通过调节倍频光的能量,可以改变光栅结构的方向。本发明制备纳米光栅的装置,包括一飞秒激光器,并由沿该飞秒激光器输出的飞秒激光脉冲的光轴上依次是格兰棱镜、KDP晶体和聚焦透镜构成,所述的格兰棱镜和KDP晶体具有绕光轴旋转的调节机构。本发明的装置结构不复杂,制备方法简便,获得的光栅刻线规则,光栅面积较大,光栅方向可控。

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