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使衍射能够受控的光刻照射设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201380057302.6
IPC分类号：G03F7/20;G02B27/09
申请日期：
2013-09-25
申请人：
萨基姆防务安全公司;上海微电子装备有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	使衍射能够受控的光刻照射设备
申请号	CN201380057302.6	申请日期	2013-09-25
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-10-07	公开/公告号	CN104969128A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;2;7;/;0;9查看分类表>
申请人	萨基姆防务安全公司;上海微电子装备有限公司	申请人地址	法国布洛涅-比扬古变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	萨基姆防务安全公司,上海微电子装备有限公司	当前权利人	萨基姆防务安全公司,上海微电子装备有限公司
发明人	B·普兰尚;R·梅西耶伊捷
代理机构	北京戈程知识产权代理有限公司	代理人	程伟;王锦阳

摘要

本发明涉及一种光刻照射器设备，其包括：光束光源；聚光器(5)；光均化系统(4)，其包括至少一个微透镜阵列，所述系统布置在聚光器的上游；以及快门(3)，其布置在光均化系统的物方焦点处，所述照射器的特征在于，其进一步包括孔径光阑网络(8)，所述孔径光阑网络(8)布置在快门(3)的平面的傅里叶变换平面上。本发明同样涉及包括这种照射器的光刻设备。

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