用于光罩的时变强度图的产生

发明专利有效专利

申请号：
CN201910181303.0
IPC分类号：G03F1/84;G03F7/20;G01N21/956;G01N21/95
申请日期：
2013-02-14
申请人：
科磊股份有限公司

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著录项信息

专利名称	用于光罩的时变强度图的产生
申请号	CN201910181303.0	申请日期	2013-02-14
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-07-19	公开/公告号	CN110032039A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/84 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/68 未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺〔2012.01〕 G03F1/82 辅助工艺，例如清洗〔2012.01〕 G03F1/84 检查〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;8;4;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;1;N;2;1;/;9;5;6;;;G;0;1;N;2;1;/;9;5查看分类表>
申请人	科磊股份有限公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	科磊股份有限公司	当前权利人	科磊股份有限公司
发明人	卡尔·赫斯;石瑞芳;托马斯·瓦武尔
代理机构	北京律盟知识产权代理有限责任公司	代理人	刘丽楠

摘要

本申请涉及用于光罩的时变强度图的产生。本发明揭示用于检验光学光刻光罩的方法及设备。界定光罩的多个片块区。在于任何光学光刻过程中使用光罩之前，在第一检验期间使用光学光罩检验工具来针对多组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的多个子区测量的光的多个参考强度值的参考平均值。在于多个光学光刻过程中使用所述光罩之后，在第二检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对所述组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的所述多个子区测量的光的多个测试强度值的平均值。针对所述第一检验及所述第二检验两者使用所述光学光罩检验工具的同一设置配方。产生差强度图，且此图包括各自对应于所述组一或多个片块中的每一组的所述测试强度值的每一平均值与所述参考强度值的平均值之间的差的多个图值。所述差强度图指示所述光罩是否已随着时间降级超过预定义水平。

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