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用于操纵和传送计量光束的器件和方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200410008016.3
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/00
  • 申请日期:
    2004-03-05
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称用于操纵和传送计量光束的器件和方法
申请号CN200410008016.3申请日期2004-03-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2004-09-08公开/公告号CN1527140
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人E·A·F·范德帕斯奇;M·H·M·比姆斯;E·J·M·尤森;E·J·J·克里滕特
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
一种光刻投影装置,配有一种用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束的器件。该器件包括第一和第二光楔,其中第二光楔和第一光楔具有相对于彼此的相对位置。至少一部分计量光束沿入射光轴在第一光楔的第一主要表面处进入该器件,穿过第一和第二光楔,并在第二光楔的第二主要表面处射出。第一和第二光楔安排为通过改变第一和第二光楔的相对位置使至少一部分计量光束相对于入射光轴旋转和/或平移。

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