有源阵列基板及其制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201310016936.9
IPC分类号：G02F1/1337;G02F1/1333
申请日期：
2013-01-17
申请人：
立景光电股份有限公司

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著录项信息

专利名称	有源阵列基板及其制造方法
申请号	CN201310016936.9	申请日期	2013-01-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-07-23	公开/公告号	CN103941478A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1337 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1337 液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;7;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;3查看分类表>
申请人	立景光电股份有限公司	申请人地址	中国台湾台南市新市区紫楝路26号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	立景光电股份有限公司	当前权利人	立景光电股份有限公司
发明人	潘柏宏
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	陈小雯

摘要

本发明公开一种有源阵列基板及其制造方法。有源阵列基板包括一基板、一导电层及一配向膜。基板具有一有源区域、一无配向区域及一框胶区域，其中无配向区域围绕有源区域，框胶区域围绕有源区域及无配向区域。导电层配置于基板上，且形成一沟槽，其中沟槽对应无配向区的部分填满一第一疏离材质，且第一疏离材质经一表面处理。配向膜配置于导电层上非对应无配向区域的部分，且配向膜由一配向膜溶液所形成，其中配向膜溶液与经表面处理的第一疏离材质相互排斥。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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