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液晶显示装置用阵列基板的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201080033378.1
IPC分类号：G02F1/136
申请日期：
2010-07-22
申请人：
东友FINE-CHEM股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	液晶显示装置用阵列基板的制造方法
申请号	CN201080033378.1	申请日期	2010-07-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-05-23	公开/公告号	CN102472938A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/136 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6查看分类表>
申请人	东友FINE-CHEM股份有限公司	申请人地址	韩国全罗北道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东友精细化工有限公司	当前权利人	东友精细化工有限公司
发明人	崔容硕;李石;尹暎晋;李铉奎;李友兰
代理机构	北京派特恩知识产权代理有限公司	代理人	武晨燕;周义刚

摘要

本发明涉及一种液晶显示装置用阵列基板的制造方法，其包含使用蚀刻剂组成物蚀刻铜基金属层，其中蚀刻剂组成物，按组成物的总重量计，包括：a)2～30重量％的过氧化氢(H2O2)；b)0.1～5重量％的硝酸(HNO3)；c)0.01～1.0重量％的至少一种含氟化合物；d)0.1～5重量％的至少一种唑化合物；e)0.1～8.0重量％的至少一种咪唑化合物；及f)其余为水。

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