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非易失性存储器以及非易失性存储器的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610171250.7
  • IPC分类号:H01L27/115;H01L21/8247
  • 申请日期:
    2006-12-21
  • 申请人:
    东部电子股份有限公司
著录项信息
专利名称非易失性存储器以及非易失性存储器的制造方法
申请号CN200610171250.7申请日期2006-12-21
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2007-06-27公开/公告号CN1988161
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/115
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IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;7查看分类表>
申请人东部电子股份有限公司申请人地址
韩国首尔 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东部电子股份有限公司当前权利人东部电子股份有限公司
发明人朴盛羲
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人郑小军
摘要
本发明公开一种非易失性存储器以及非易失性存储器的制造方法,其中非易失性存储器包括具有多个沟槽的半导体衬底。隐埋扩散区可以形成在沟槽一侧的衬底中。栅极绝缘层可以形成在该衬底的表面上。浮置栅极可以形成在沟槽之间的栅极绝缘层上。绝缘层可以形成在该栅极绝缘层和该浮置栅极上。控制栅极可以形成在该绝缘层上。

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