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集成薄膜太阳能电池的透明电极的处理方法及其结构、及具有处理过的透明电极的透明基板

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910135641.7
  • IPC分类号:H01L31/18;H01L31/0224
  • 申请日期:
    2006-03-16
  • 申请人:
    韩国科学技术院
著录项信息
专利名称集成薄膜太阳能电池的透明电极的处理方法及其结构、及具有处理过的透明电极的透明基板
申请号CN200910135641.7申请日期2006-03-16
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2009-10-21公开/公告号CN101562219
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/18IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;2;4查看分类表>
申请人韩国科学技术院申请人地址
韩国大田市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人韩国科学技术院当前权利人韩国科学技术院
发明人林宏树;权圣源;郭中焕;朴相一;尹浚宝;文建又
代理机构北京中安信知识产权代理事务所代理人张小娟
摘要
本发明涉及集成薄膜太阳能电池,尤其涉及最小化制造过程所引起的集成太阳能电池的损耗并可通过低成本工序获得的集成薄膜太阳能电池,以及制造该太阳能电池的方法,用于集成薄膜太阳能电池的透明电极的处理方法,其通过最小化集成薄膜太阳能电池的单元电池之间(绝缘)间隙能够加宽有效区域并减少制造成本,以及透明电极的结构,以及具有透明电极的透明基板。制造集成薄膜太阳能电池的方法包括以下步骤:(a)单独在透明基板上形成透明电极图案;(b)在步骤(a)的基板上形成太阳能电池(半导体)层;(c)通过在太阳能电池(半导体)层上倾斜沉积导电材料形成第一后电极;(d)通过将第一后电极作为掩模蚀刻太阳能电池(半导体)层;和(e)通过在步骤(d)的基板上倾斜沉积金属形成第二后电极以使透明电极和第一后电极电连接。

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