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一种制备钼靶的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310098029.3
  • IPC分类号:C23C14/34
  • 申请日期:
    2013-03-26
  • 申请人:
    金堆城钼业股份有限公司
著录项信息
专利名称一种制备钼靶的方法
申请号CN201310098029.3申请日期2013-03-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-06-05公开/公告号CN103132033A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/34IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人金堆城钼业股份有限公司申请人地址
陕西省西安市高新区锦业一路88号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人金堆城钼业股份有限公司当前权利人金堆城钼业股份有限公司
发明人王林;朱琦;杨秦莉;王娜
代理机构西安创知专利事务所代理人谭文琰
摘要
本发明公开了一种制备钼靶的方法,该方法为:一、将钼粉压制成钼坯料,置于高温炉内进行预烧结得到预烧结坯;二、将预烧结坯置于高温炉内进行烧结,得到高纯钼金属坯;三、将高纯钼金属坯送入马弗炉中加热,然后对加热后的高纯钼金属坯进行压力加工,得到钼板;四、将钼板加热,冷却后进行机械加工;五、将经机械加工后的钼板清洗干净,与金属背板绑定,得到钼靶。本发明采用在低压力下进行预烧结,能够降低杂质熔点,创造杂质挥发条件,有利于去除材料中的气体元素和低熔点杂质,尤其是降低了材料中的C、O、Si、Cr、Ca、K、Mg、Ti、Ni等杂质元素含量,显著提高了制成品的纯度,保证了钼溅射靶材的纯度和产品质量。

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