化学沉积密封装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201620444951.2
IPC分类号：C23C18/00;H01L21/67
申请日期：
2016-05-16
申请人：
财团法人工业技术研究院

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	化学沉积密封装置
申请号	CN201620444951.2	申请日期	2016-05-16
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C18/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C18/00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆）；接触镀〔4，2006.01〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;8;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人	财团法人工业技术研究院	申请人地址	中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	财团法人工业技术研究院	当前权利人	财团法人工业技术研究院
发明人	杜陈忠
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	任岩

摘要

一种化学沉积密封装置，其包含：一第一扣紧组件；一第二扣紧组件，与第一扣紧组件相扣合；一定位装置，设置于第一扣紧组件与第二扣紧组件之间。定位装置包括：一第一承座，用以承载一基板；一第二承座，用以承载另一基板；其中，该第一扣紧组件具有一第一凸缘，该第二扣紧组件具有一第二凸缘，该第一凸缘设有一第一内密封环，该第二凸缘设有一第二内密封环，且在该第二扣紧组件上设有一第二外密封环。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供