等离子体处理装置的包括流动的保护性液体层的室壁

发明专利无效专利

申请号：
CN201410245384.3
IPC分类号：H01J37/32;H01L21/67
申请日期：
2014-06-04
申请人：
朗姆研究公司

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著录项信息

专利名称	等离子体处理装置的包括流动的保护性液体层的室壁
申请号	CN201410245384.3	申请日期	2014-06-04
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-12-17	公开/公告号	CN104217915A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人	朗姆研究公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	朗姆研究公司	当前权利人	朗姆研究公司
发明人	哈梅特·辛格
代理机构	上海胜康律师事务所	代理人	李献忠

摘要

本发明涉及等离子体处理装置的包括流动的保护性液体层的室壁。具体地，半导体等离子体处理装置包括在其中处理半导体衬底的真空室、与该真空室流体连通以将工艺气体供给到所述真空室中的工艺气体源、以及适于在真空室中将工艺气体激励成等离子体状态的RF能量源。该装置还可包括室壁，其中所述室壁包括用于将等离子体兼容液体供给到其暴露于等离子体的表面的机构，其中等离子体兼容液体流经暴露于等离子体的表面从而在暴露于等离子体的表面上形成流动的保护性液体层。液体供给器将等离子体兼容液体输送到室壁。

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