晶体层叠结构体

发明专利有效专利

申请号：
CN201910308044.3
IPC分类号：--
申请日期：
2012-08-06
申请人：
株式会社田村制作所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	晶体层叠结构体
申请号	CN201910308044.3	申请日期	2012-08-06
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-07-30	公开/公告号	CN110071170A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	株式会社田村制作所	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社田村制作所	当前权利人	株式会社田村制作所
发明人	佐佐木公平
代理机构	北京市隆安律师事务所	代理人	徐谦;张艳凤

摘要

本发明提供一种晶体层叠结构体，其包含：外延生长基板，其包含n型β‑Ga2O3系单晶，将(010)面、或者相对于上述(010)面以37.5°以内的角度范围倾斜的面作为主面；以及n型外延晶体，其形成于上述外延生长基板的上述主面上，上述n型β‑Ga2O3系单晶包含第1供体浓度，上述n型外延晶体是含镓氧化物，包含比上述第1供体浓度低的第2供体浓度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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