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一种集成肖特基二极管的平面型场效晶体管

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201920251219.7
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L29/417;H01L29/47;H01L29/06
  • 申请日期:
    2019-02-27
  • 申请人:
    四川美阔电子科技有限公司
著录项信息
专利名称一种集成肖特基二极管的平面型场效晶体管
申请号CN201920251219.7申请日期2019-02-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;1;7;;;H;0;1;L;2;9;/;4;7;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6查看分类表>
申请人四川美阔电子科技有限公司申请人地址
四川省遂宁市经济技术开发区玉龙路598号创新创业孵化中心办公楼五楼5001-5002号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人四川美阔电子科技有限公司当前权利人四川美阔电子科技有限公司
发明人叶荣辉
代理机构成都行之专利代理事务所(普通合伙)代理人张严芳
摘要
本实用新型提供了一种集成肖特基二极管的平面型场效晶体管,解决了现有金氧半场效晶体管在应用于高压或高速切换频率时,制作成本高,增加漏电流,降低金氧半场效晶体管的稳定性,产品的结构复杂,产品体积大且良率低的问题。本实用新型包括基板,所述基板的上表面设置有磊晶层,所述磊晶层上形成有第一介电层,所述第一介电层的部分表面形成有至少一个闸极,未被闸极覆盖的所述磊晶层上掺杂形成有至少一个本体,所述本体的部分区域掺杂形成有至少一个源极区,所述第一介电层和所述闸极上形成有第二介电层,所述第二介电层上设置有源极,所述基板、磊晶层、本体及源极区均为半导体。本实用新型具有排除累计电荷快,产品构造简单及体积小等优点。

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