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低损耗光学有源器件的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN98106972.X
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1998-02-26
  • 申请人:
    三星电子株式会社
著录项信息
专利名称低损耗光学有源器件的制造方法
申请号CN98106972.X申请日期1998-02-26
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日1998-09-16公开/公告号CN1193117
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人三星电子株式会社申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星电子株式会社当前权利人三星电子株式会社
发明人俞炳权;李炯宰;李泰衡;李勇雨
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人李晓舒
摘要
低损耗光学有源器件及其制作方法。该方法包括步骤:用线性聚合物在可透过紫外(UV)光的基片上形成下包层;在下包层的一区域形成不透过UV光的第一金属层,形成不透过UV光的第二金属层;形成非线性聚合物层;对基片用UV光曝光,仅在非线性芯区形成非线性聚合物;形成第三金属层;去除第二金属层;在第一金属层和光波导上涂覆线性聚合物;仅在线性芯区形成线性聚合物;去除第一和第三金属层;在下包层和波导芯区形成上包层。

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