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一种新型阻容复合芯片及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011228795.3
  • IPC分类号:H01G2/10;H01G2/22;H01G13/00;H01G17/00
  • 申请日期:
    2020-11-06
  • 申请人:
    重庆工程职业技术学院
著录项信息
专利名称一种新型阻容复合芯片及其制造方法
申请号CN202011228795.3申请日期2020-11-06
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-02-23公开/公告号CN112397306A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01G2/10IPC分类号H;0;1;G;2;/;1;0;;;H;0;1;G;2;/;2;2;;;H;0;1;G;1;3;/;0;0;;;H;0;1;G;1;7;/;0;0查看分类表>
申请人重庆工程职业技术学院申请人地址
重庆市江津区滨江新城南北大道1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人重庆工程职业技术学院当前权利人重庆工程职业技术学院
发明人贺晓辉;蒋雨芯;石磊;朱永丽;赵世纪
代理机构重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)代理人暂无
摘要
本发明公开了一种新型阻容复合芯片及其制造方法,涉及半导体技术领域,包括电阻芯片、电容芯片、两根引线,以及用于包覆电阻芯片和电容芯片的保护层;电阻芯片与电容芯片并联连接,两根引线平行设置,并分别与电阻芯片两面的电极连接,保护层为聚氨酯丙烯酸酯大分子单体经过聚合、交联、固化而成,保护层内分散有碳纳米管,碳纳米管内填充有氧化铁。本发明能够有效防止电压突变,吸收尖峰状态的过电压,避免与其并联的器件造成损坏。此外,聚氨酯丙烯酸酯大分子单体加工成的保护层透明度好,拉伸强度、冲击强度、硬度等机械性能强,热变形温度高,不易破碎,较玻璃防护层更加安全耐用、较二氧化硅保护层对光的穿透性更高。

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