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用于彩绘的自动测距定位喷头装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201320027255.8
  • IPC分类号:B41J25/304
  • 申请日期:
    2013-01-18
  • 申请人:
    武汉华美艾普科技有限公司
著录项信息
专利名称用于彩绘的自动测距定位喷头装置
申请号CN201320027255.8申请日期2013-01-18
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B41J25/304IPC分类号B;4;1;J;2;5;/;3;0;4查看分类表>
申请人武汉华美艾普科技有限公司申请人地址
湖北省武汉市东湖新技术开发区华中科技大学科技园6路5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人郭永乐当前权利人郭永乐
发明人郭永乐;李文成;邓小红
代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司代理人邓寅杰
摘要
本实用新型涉及一种用于彩绘的自动测距定位喷头装置,其不同之处在于其包括Z轴平台,所述Z轴平台上设置有Z轴电机、微型轨道、喷头控制盒,Z轴电机通过传动副驱动喷头控制盒沿所述微型轨道移动,所述喷头控制盒上设置有喷头,所述喷头控制盒的一侧设置有测距传感器。本实用新型能实现自动测距、定位,提高了工作效率。

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