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在半导体管芯上形成支撑层的半导体器件和方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010198703.5
  • IPC分类号:H01L21/56;H01L21/48;H01L21/60;H01L23/29;H01L23/31;H01L23/498
  • 申请日期:
    2013-08-30
  • 申请人:
    新科金朋有限公司
著录项信息
专利名称在半导体管芯上形成支撑层的半导体器件和方法
申请号CN202010198703.5申请日期2013-08-30
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2020-08-07公开/公告号CN111508853A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/56IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;5;6;;;H;0;1;L;2;1;/;4;8;;;H;0;1;L;2;1;/;6;0;;;H;0;1;L;2;3;/;2;9;;;H;0;1;L;2;3;/;3;1;;;H;0;1;L;2;3;/;4;9;8查看分类表>
申请人新科金朋有限公司申请人地址
新加坡新加坡市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人新科金朋有限公司当前权利人新科金朋有限公司
发明人林耀剑;陈康;顾煜
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人陈岚
摘要
本发明涉及在半导体管芯上形成支撑层的半导体器件和方法。一种制造半导体器件的方法,包括:提供半导体管芯;在半导体管芯上方形成第一支撑层;在半导体管芯周围和第一支撑层的侧表面周围形成密封剂;以及在半导体管芯和密封剂上方形成与所述第一支撑层相对的互连结构。

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