加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

显示装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810131294.6
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L29/786;H01L29/12;G02F1/1362
  • 申请日期:
    2008-08-04
  • 申请人:
    株式会社半导体能源研究所
著录项信息
专利名称显示装置
申请号CN200810131294.6申请日期2008-08-04
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-02-18公开/公告号CN101369587
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;H;0;1;L;2;9;/;1;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;2查看分类表>
申请人株式会社半导体能源研究所申请人地址
日本神奈川县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社半导体能源研究所当前权利人株式会社半导体能源研究所
发明人山崎舜平;荒井康行;铃木幸惠;黑川义元
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人侯颖媖
摘要
本发明的目的在于提供一种显示装置及生产率高地制造其的方法,所述显示装置具有电特性优越且可靠性高的p沟道型薄膜晶体管及n沟道型薄膜晶体管。本发明之一是一种显示装置,包括:反交错型p沟道型薄膜晶体管和n沟道型薄膜晶体管,该p沟道型薄膜晶体管和n沟道型薄膜晶体管在栅电极上顺序层叠有栅极绝缘膜、微晶半导体膜、以及非晶半导体膜,并且还包括形成在非晶半导体膜上的一对n型半导体膜或p型半导体膜、以及形成在一对n型半导体膜或p型半导体膜上的一对布线,其中微晶半导体膜包含1×1016atoms/cm3以下的氧。此外,n沟道型薄膜晶体管的迁移率为10cm2/V·s以上且45cm2/V·s以下,而p沟道型薄膜晶体管的迁移率为0.3cm2/V·s以下。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供