一种微纳结构压印成型模具

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201621433162.5
IPC分类号：B29C59/02
申请日期：
2016-12-26
申请人：
昇印光电（昆山）股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种微纳结构压印成型模具
申请号	CN201621433162.5	申请日期	2016-12-26
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B29C59/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B29 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工 B29C 塑料的成型或连接；塑性状态材料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整（制作预型件入B29B 11/00；通过将原本不相连接的层结合成为各层连在一起的产品来制造层状产品入B32B 7/00至B32B 41/00）〔4〕 B29C59/00 表面成型，如压花；所用的设备〔4〕 B29C59/02 用机械方法，如压制〔4〕	IPC分类号	B;2;9;C;5;9;/;0;2查看分类表>
申请人	昇印光电（昆山）股份有限公司	申请人地址	江苏省苏州市昆山市玉山镇元丰路33号2号房变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	昇印光电（昆山）股份有限公司	当前权利人	昇印光电（昆山）股份有限公司
发明人	李廷钢;杨广舟;刘立冬;袁泉;洪莘
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本实用新型公开了一种微纳结构压印成型模具，其包括承载体、具有遮光或绝热功能的遮掩结构、保护层以及微纳结构层；所述遮掩结构形成所述承载体一侧，所述保护层设置于所述遮掩结构远离承载体一侧，所述微纳结构层位于保护层表面，其中所述微纳结构层远离保护层的一侧形成有微纳结构。本实用新型提供的遮挡结构可以是绝热的或者遮光的，并且在遮挡结构表面设有保护层，这样可以很好的防止遮光结构所用材料的漂移，这样在其表面做微纳结构的时候，遮光结构所用材料并不会发生漂移，可以很大程度上提高模具的良率，也间接的提高了压印成型的产品良率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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