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金属—氧化物—半导体后部工艺

发明专利无效专利

申请号：
CN85104650.9
IPC分类号：--
申请日期：
1985-06-15
申请人：
英特尔公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	金属—氧化物—半导体后部工艺
申请号	CN85104650.9	申请日期	1985-06-15
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	英特尔公司	申请人地址	美国加里福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	英特尔公司	当前权利人	英特尔公司
发明人	利奥波杜;罗伯特;肯尼思;吉克;戴维
代理机构	中国专利代理有限公司	代理人	肖掬昌

摘要

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