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膜厚测定装置以及膜厚测定方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200980111320.1
  • IPC分类号:G01B11/06;G01N21/27
  • 申请日期:
    2009-07-24
  • 申请人:
    株式会社尼利可
著录项信息
专利名称膜厚测定装置以及膜厚测定方法
申请号CN200980111320.1申请日期2009-07-24
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2011-02-23公开/公告号CN101981406A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01B11/06IPC分类号G;0;1;B;1;1;/;0;6;;;G;0;1;N;2;1;/;2;7查看分类表>
申请人株式会社尼利可申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼利可当前权利人株式会社尼利可
发明人山田健夫;山本猛;山仓崇宽;林真治;河合慎吾
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人李辉;黄纶伟
摘要
本发明提供一种膜厚测定装置以及膜厚测定方法,膜厚测定装置具有光源(101)、分光传感器(109)、处理器(120)、和存储装置(130),使来自上述光源的光垂直地入射到具有膜的测定对象面(501),被测定对象面反射的光入射到上述分光传感器。上述存储装置存储每种膜厚的反射率分布的理论值和每种膜厚的颜色特性变量的理论值,上述处理器使用存储于上述存储装置中的每种膜厚的反射率分布的理论值或每种膜厚的颜色特性变量的理论值,根据上述分光传感器所测定的反射率分布,求出测定对象面的膜的膜厚。

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