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真空蒸镀装置及蒸镀薄膜制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200380107480.1
IPC分类号：C23C14/56;C23C16/54
申请日期：
2003-12-26
申请人：
凸版印刷株式会社;应用薄膜有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	真空蒸镀装置及蒸镀薄膜制造方法
申请号	CN200380107480.1	申请日期	2003-12-26
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2006-02-08	公开/公告号	CN1732284
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/56 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/56 连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;6;/;5;4查看分类表>
申请人	凸版印刷株式会社;应用薄膜有限公司	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	凸版印刷株式会社,应用材料有限两合公司	当前权利人	凸版印刷株式会社,应用材料有限两合公司
发明人	佐佐木昇;铃木浩;小泉文刚;今井伸彦;新井邦正;小长井裕之
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	蔡胜利

摘要

公开了一种真空蒸镀装置和一种蒸镀膜制造方法，用于通过在原料薄膜的表面上形成蒸镀层而产生蒸镀膜。在真空蒸镀装置中，同步装置(18)将涂辊(14)的圆周速度v1和收取导辊(15)的圆周速度v2设置为v1＝v2，从而位于蒸镀膜表面上的蒸镀层不会摩擦收取导辊(15)。因此，消除了损坏蒸镀层的可能性，以使蒸镀层具有足够的性能。

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