无研磨剂的抛光系统

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专利名称	无研磨剂的抛光系统
申请号	CN200680033516.X	申请日期	2006-08-09
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2008-09-10	公开/公告号	CN101263209
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/04 水性分散剂（C09G 1/02优先）	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;2;1查看分类表>
申请人	卡伯特微电子公司	申请人地址	美国伊利诺伊州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	卡伯特微电子公司	当前权利人	卡伯特微电子公司
发明人	艾萨克·谢里安;凯文·莫金博格
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	宋莉

摘要

本发明提供一种化学-机械抛光系统，其包括：水溶性硅酸盐化合物、氧化基板的至少一部分的氧化剂、水和抛光垫，其中该抛光系统基本上无研磨剂颗粒。本发明进一步提供一种用上述抛光系统化学-机械抛光基板的方法。该抛光系统在钽的移除中特别有用。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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