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基板处理方法及基板处理装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201680054020.4
  • IPC分类号:H01L21/304;H01L21/306
  • 申请日期:
    2016-09-13
  • 申请人:
    株式会社斯库林集团
著录项信息
专利名称基板处理方法及基板处理装置
申请号CN201680054020.4申请日期2016-09-13
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2018-05-11公开/公告号CN108028192A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/304
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IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6查看分类表>
申请人株式会社斯库林集团申请人地址
日本京都府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社斯库林集团当前权利人株式会社斯库林集团
发明人江本哲也;永德笃郎;岩田智巳;泷昭彦
代理机构隆天知识产权代理有限公司代理人向勇;宋晓宝
摘要
一种基板处理方法,使用处理液处理被保持为水平姿势的基板,所述基板处理方法包括置换工序,在该置换工序中,将附着于所述基板的上表面的处理液置换为表面张力低于该处理液的表面张力的低表面张力液体,所述置换工序执行如下工序:中央部喷出工序,从配置于所述基板的上方的第一低表面张力液体喷嘴向所述上表面的中央部喷出所述低表面张力液体;非活性气体供给工序,与所述中央部喷出工序并行执行,为了形成沿所述上表面流动的气流,向所述基板的上方供给非活性气体;以及周缘部喷出供给工序,与所述中央部喷出工序及所述非活性气体供给工序并行执行,从配置于所述基板的上方的第二低表面张力液体喷嘴向所述上表面的周缘部喷出所述低表面张力液体。

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