加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

对多孔质膜进行蚀刻的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711202249.0
  • IPC分类号:H01J37/32;H01L21/311
  • 申请日期:
    2016-04-20
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称对多孔质膜进行蚀刻的方法
申请号CN201711202249.0申请日期2016-04-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-03-02公开/公告号CN107749389A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;1查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人田原慈;西村荣一;M·巴克拉诺夫;L·张;J-F·德马尔内夫
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司代理人龙淳;王磊
摘要
本发明提供一种对具有细孔的多孔质膜进行蚀刻的方法,包括:重复实施包括如下工序的动作顺序的步骤:向收纳有等离子体处理装置的处理容器内供给包含处理气体的第一气体的工序,向所述处理容器内供给第二气体的工序,和在所述处理容器内生成所述多孔质膜的蚀刻用的第二气体的等离子体的工序;以及在所述动作顺序中设定载台的温度,使所述处理气体具有1Torr以下的饱和蒸气压的步骤,其中,在设定所述载台的温度时,所述载台的温度根据使用被液化的处理气体的所述饱和蒸气压和绝对温度的实测值的外延而确定、或者利用由安托万蒸气压经验式规定的所述饱和蒸气压与所述绝对温度的关系的计算而确定。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供