一种高纯铝金相试样的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110587904.9
IPC分类号：G01N1/28;G01N1/32
申请日期：
2021-05-27
申请人：
先导薄膜材料（广东）有限公司

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著录项信息

专利名称	一种高纯铝金相试样的制备方法
申请号	CN202110587904.9	申请日期	2021-05-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-03	公开/公告号	CN113340690A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N1/28 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N1/00 取样；制备测试用的样品（用于自动分析的材料处理入G01N 35/00） G01N1/28 测试用样品的制备（将样品安装在显微镜载片上入G02B 21/34；电子显微镜中支承被分析的物品或材料的装置入H01J 37/20）	IPC分类号	G;0;1;N;1;/;2;8;;;G;0;1;N;1;/;3;2查看分类表>
申请人	先导薄膜材料（广东）有限公司	申请人地址	广东省清远市高新区百嘉工业园27-9号A区变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	先导薄膜材料（广东）有限公司	当前权利人	先导薄膜材料（广东）有限公司
发明人	周荣艳;余飞;文崇斌
代理机构	广州三环专利商标代理有限公司	代理人	颜希文

摘要

本发明提供了一种高纯铝金相试样的制备方法，涉及铝金相样品制备技术领域。本发明提供的高纯铝金相试样的制备方法包括如下步骤：(1)取样；(2)标记；(3)研磨；(4)粗抛；(5)精抛；(6)电解抛光；(7)阳极覆膜。本发明技术方案通过在高纯铝抛光阶段采用电解抛光，腐蚀阶段采用电解腐蚀，相对于传统采用手动加机械抛光制备金相试样，省时高效，简单可靠、制备的金相组织清晰可见且实验可重现性高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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