一种精密离子研磨机台及其样片夹

发明专利无效专利

申请号：
CN200910050249.2
IPC分类号：G01N1/28;G01N23/04
申请日期：
2009-04-29
申请人：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

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著录项信息

专利名称	一种精密离子研磨机台及其样片夹
申请号	CN200910050249.2	申请日期	2009-04-29
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2010-11-03	公开/公告号	CN101876605A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N1/28 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N1/00 取样；制备测试用的样品（用于自动分析的材料处理入G01N 35/00） G01N1/28 测试用样品的制备（将样品安装在显微镜载片上入G02B 21/34；电子显微镜中支承被分析的物品或材料的装置入H01J 37/20）	IPC分类号	G;0;1;N;1;/;2;8;;;G;0;1;N;2;3;/;0;4查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江路18号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
发明人	虞勤琴;高强;胡建强;王燕君
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	郑立柱

摘要

本发明提供了一种精密离子研磨机台及其样片夹，其中，包括一个或多个夹片，所述一个或多个夹片能够在其所属平面内移动，以调整所述样片相对于所述精密离子机台的离子束的固定位置。本发明还提供了一种精密离子研磨机台，其中，包括本实施例第一方面所提供的样片夹。本发明能够调整TEM相对于精密离子研磨机台的离子抢的位置，从而有效地避免样片被过度研磨甚至造成破损，而需要观察的结构仍在该破损处边缘较厚处的情况。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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