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激光近场分辨率测量用4f光学系统

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201120074815.6
IPC分类号：G01J1/04;G02B27/30;G02B27/00
申请日期：
2011-03-21
申请人：
中国科学院西安光学精密机械研究所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	激光近场分辨率测量用4f光学系统
申请号	CN201120074815.6	申请日期	2011-03-21
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01J1/04 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01J 红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法〔2〕 G01J1/00 光度测定法，例如照相的曝光表（分光光度测定法入G01J 3/00；专用于辐射高温测定法的入G01J 5/00） G01J1/02 零部件 G01J1/04 光学或机械部件	IPC分类号	G;0;1;J;1;/;0;4;;;G;0;2;B;2;7;/;3;0;;;G;0;2;B;2;7;/;0;0查看分类表>
申请人	中国科学院西安光学精密机械研究所	申请人地址	陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院西安光学精密机械研究所	当前权利人	中国科学院西安光学精密机械研究所
发明人	李红光;董晓娜;达争尚
代理机构	西安智邦专利商标代理有限公司	代理人	徐平

摘要

本实用新型涉及一种在激光近场分辨率测量用的4f光学系统，该激光近场分辨率测量用4f光学系统包括对入射光起发散作用的发散元件、对入射光起会聚作用的会聚元件以及探测器；发散元件、会聚元件以及探测器依次设置于同一光轴上。本实用新型提供了一种测量精度高、结构简单以及使用方便的激光近场分辨率测量用4f光学系统。

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