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用于减轻正电离子对表面片段的撞击的器件以及离子加速器装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200880115628.9
  • IPC分类号:F03H1/00;B64G1/40;B64G1/54
  • 申请日期:
    2008-09-12
  • 申请人:
    塔莱斯电子设备有限公司
著录项信息
专利名称用于减轻正电离子对表面片段的撞击的器件以及离子加速器装置
申请号CN200880115628.9申请日期2008-09-12
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2010-10-06公开/公告号CN101855449A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F03H1/00IPC分类号F;0;3;H;1;/;0;0;;;B;6;4;G;1;/;4;0;;;B;6;4;G;1;/;5;4查看分类表>
申请人塔莱斯电子设备有限公司申请人地址
德国乌尔姆 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人塔莱斯电子系统有限公司当前权利人塔莱斯电子系统有限公司
发明人汉斯-彼得·哈尔曼;诺贝特·科赫;冈特·科恩菲尔德
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司代理人邹璐;樊卫民
摘要
本发明涉及一种暴露于离子流,尤其是用于空间飞行器中的驱动装置的表面片段,空间飞行器中包括静电离子加速器装置。根据本发明,为减轻腐蚀,设置中间电位能量面,所述表面的有利之处在于,其允许形成基本上平行于所述表面片段的磁场。

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