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人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110347796.4
  • IPC分类号:H04N5/232;H04N5/243;G06T5/00
  • 申请日期:
    2011-11-07
  • 申请人:
    华晶科技股份有限公司
著录项信息
专利名称人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置
申请号CN201110347796.4申请日期2011-11-07
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2013-05-08公开/公告号CN103095979A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H04N5/232IPC分类号H;0;4;N;5;/;2;3;2;;;H;0;4;N;5;/;2;4;3;;;G;0;6;T;5;/;0;0查看分类表>
申请人华晶科技股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹市科学园区力行路12号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华晶科技股份有限公司当前权利人华晶科技股份有限公司
发明人李运锦
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司代理人臧建明
摘要
本发明涉及一种人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置。影像处理方法包括下列步骤。首先,撷取一待处理影像,并针对此待处理影像进行人脸检测程序,藉以定义出包括一或多个人脸的一人脸区域。接着,分析待处理影像中的人脸区域内的亮暗分布,并判断人脸区域内是否存在过曝区域。若是,对待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出第一曝光影像与第二曝光影像。利用在第一曝光影像中与过曝区域相对应的区域与第二曝光影像进行影像混合,藉以产生一处理后影像。本发明可直接于一般消费型相机中实现上述改善人脸局部过曝现象的功能。

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