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一种TFT基板的制作方法、TFT基板及光罩

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710261622.3
  • IPC分类号:H01L27/12
  • 申请日期:
    2017-04-20
  • 申请人:
    深圳市华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称一种TFT基板的制作方法、TFT基板及光罩
申请号CN201710261622.3申请日期2017-04-20
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2017-08-22公开/公告号CN107086219A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人深圳市华星光电技术有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TCL华星光电技术有限公司当前权利人TCL华星光电技术有限公司
发明人高冬子
代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)代理人钟子敏
摘要
本申请公开了一种TFT基板的制作方法、TFT基板及光罩。该方法包括:获得包括第一部分及位于第一部分侧边的第二部分,且铺设于TFT基板上的光阻层;刻蚀位于光阻层下的TFT基板的第一金属层;且使光阻层的第一部分不突出于所述刻蚀后的第一金属层的侧边;以光阻层的第一部分为掩膜,刻蚀第一金属层下的半导体层,以使半导体层的侧边不突出于刻蚀后的金属层的侧边。通过该方法可以明显减少半导体层的裸露,从而能够提高TFT基板的可靠性。

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