声场阈值分割的相控阵曲面全聚焦成像优化方法及系统

发明专利有效专利

申请号：
CN202110941840.8
IPC分类号：G01N29/06;G01N29/28;G01N29/26;G01N29/44
申请日期：
2021-08-17
申请人：
武汉理工大学

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著录项信息

专利名称	声场阈值分割的相控阵曲面全聚焦成像优化方法及系统
申请号	CN202110941840.8	申请日期	2021-08-17
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-23	公开/公告号	CN113686960A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N29/06 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N29/00 利用超声波、声波或次声波来测试或分析材料；靠发射超声波或声波通过物体得到物体内部的显像（G01N 3/00至G01N 27/00优先）〔4〕 G01N29/04 固体分析（利用声发射技术入G01N 29/14）〔4，5，8〕 G01N29/06 内部的显像，例如，声显微技术〔4，8〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;9;/;0;6;;;G;0;1;N;2;9;/;2;8;;;G;0;1;N;2;9;/;2;6;;;G;0;1;N;2;9;/;4;4查看分类表>
申请人	武汉理工大学	申请人地址	湖北省武汉市洪山区珞狮路122号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉理工大学	当前权利人	武汉理工大学
发明人	汪小凯;关山月;华林;钱东升;李一轩
代理机构	湖北武汉永嘉专利代理有限公司	代理人	许美红

摘要

本发明公开了一种声场阈值分割的相控阵曲面全聚焦成像优化方法，包括以下步骤：根据待测曲面零件确定检测参数；将待测曲面零件浸入水中，对待测曲面零件的凸面和凹面位置进行检测，采集全矩阵数据；将待测区域划分为凸面区域和凹面区域，进行各阵元声场在双介质曲面中的仿真；将各阵元声场强度的最大值的一定比例作为阈值，将各阵元成像区域进行阈值分割，生成有效区域系数矩阵，获得零件曲面的全聚焦优化成像；分析待测曲面零件凸面区域和凹面区域的缺陷尺寸和位置。本发明在保证成像质量的同时，有效提高全聚焦成像速率，对于复杂零件的水浸超声全聚焦高灵敏度检测和快速成像具有重要的工业应用价值。

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