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二氟化氙气相刻蚀阻挡层的工艺

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210089500.8
  • IPC分类号:H01L21/306
  • 申请日期:
    2012-03-30
  • 申请人:
    盛美半导体设备(上海)有限公司
著录项信息
专利名称二氟化氙气相刻蚀阻挡层的工艺
申请号CN201210089500.8申请日期2012-03-30
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2013-10-23公开/公告号CN103367138A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/306
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;6查看分类表>
申请人盛美半导体设备(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人盛美半导体设备(上海)有限公司,盛美半导体设备(上海)股份有限公司当前权利人盛美半导体设备(上海)有限公司,盛美半导体设备(上海)股份有限公司
发明人王坚;何增华;贾照伟;王晖
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人陆嘉
摘要
本发明公开一种二氟化氙气相刻蚀阻挡层的工艺,包括如下步骤:将硅片放入预加热腔内加热到一设定温度;从所述预加热腔内取出硅片并将硅片放入工艺腔内进行气相刻蚀;从所述工艺腔内取出硅片;将硅片放入后加热腔内加热到一设定温度并维持一定时间;从后加热腔内取出硅片并将硅片放入冷却腔内冷却到一设定温度;从所述冷却腔内取出硅片。本发明二氟化氙气相刻蚀阻挡层工艺中,先在预加热腔内将硅片加热,然后再将硅片放入工艺腔内进行气相刻蚀,刻蚀工艺结束后,将硅片放入后加热腔内加热,最后再将硅片传送至冷却腔内进行冷却,整个工艺过程缩短了待处理硅片的等待时间,从而大大提高了多片硅片阻挡层去除工艺的效率,同时去除了硅片表面残留的氟化物,并能有效防止硅片表面的氧化。

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